《路透》引述消息人士指，在深圳一座高度戒備的實驗室內，中國科學家今年初已造出一台能夠生產尖端晶片的光刻機原型機，可生產驅動人工智能(AI)、智能手機和先進武器的晶片。 報道指，這台原型機由荷蘭艾司摩爾(ASML)前工程師團隊製造，據指他們對ASML的極紫外光刻機(EUV)進了逆向工程，原型機目前正在測試中，並成功產生了極紫外線，但尚未生產出可用的晶片，內地當局目標是在2028年前利用原型機生產出可用的晶片。 報道指，迄今為止，只有ASML掌握EUV技術，其設備對於製造輝達(Nvidia)(NVDA.US)和AMD(AMD.US)等公司設計的、以及台積電、英特爾(INTC.US)和三星等晶片製造商生產的最先進晶片至關重要。 (ST) #ASML #光刻機 #中國 (ST)
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